高精度制版及复制

      
       微纳光学中精细的结构构成对制版提出了极为严格的需求,与此同时,不同形貌、不同特征尺寸、材料等,也对制版工艺提出了不同的要求。鲲游光电拥有国际一流的制版设备与工艺,可以满足多种高精度制版与母版加工处理要求。鲲游光电可以为客户提供多样的母版定制服务:
       ① 尺寸方面:从几平方mm的试样到标准6寸、8寸、12寸盘;
       ② 材料方面:提供硅片、SOI、玻璃、石英、聚合物等多种材料;
       ③工艺方面:根据客户的精度、时间、成本要求,提供电子束、刻蚀、激光直写、大规模集成电路工艺等多种选择,实现从10nm特征尺寸到数百um,从单层结构到多层(8层、16层等)到连续形貌复杂结构。
       根据客户的后道工序,鲲游光电也可以提供客制的母版处理服务,包括母版溅射、母版转金属版(如镍板)、以及母版防粘(基于鲲游独有的工艺,可以为母版生成<1nm的防粘层,完美保型,让下道纳米压印ready-to-go)等。 鲲游光电可以为客户提供的制版工艺包括:


  •           电子束加工
    1. 电子束(eBeam)加工技术,采用电磁场将电子束聚焦成微细束照射至电子抗蚀剂上,由于电子束可以方便的由电磁场进行偏转扫描,复杂的图形可以直接写到感光胶上而无须使用掩膜板。与其他光刻技术相比,电子束光刻的优点非常明显: 首先,电子束光刻分辨率高,可达几十纳米,如直接进行刻蚀可达到几个纳米。其次,电子束光刻不需要掩膜板,非常灵活,很适合小面积、打样、工艺验证等特殊期间的生产。

    2. 通过电子束技术,鲲游光电可以为客户提供分辨率极高(几十纳米)的母版加工。综合考虑电子束技术的精度、时间消耗、成本等因素,鲲游通常运用电子束工艺为客户进行打样服务,可以在很短的交货期,高效的验证设计,多次迭代。

  •           离子束加工
    1. 离子束光刻分为聚焦离子束曝光(FIB)、掩膜离子束光刻(MIB)和离子束溅射光刻(IBP)。离子束光刻利用离子源进行曝光。其发射面积极小,可以较容易的利用离子光学系统将发射离子聚焦成微细离子束,进行高分辨率离子束曝光。聚焦离子束曝光与电子束曝光相比有一些突出的优点:1) 邻近效应可忽略, 因离子比电子重的多。电子质量极轻,在抗蚀剂中的散射范围大,影响邻近电路形的曝光质量;2)感光胶对离子束的灵敏度要比电子束高数百倍。但聚焦离子束曝光也有一些弱点:1) 分辨率比电子束低, 因为离子束中的离子能量分散,使聚焦受到限制:2) 离子质量大,在光刻胶中的曝光深度较小。

    2. 通过离子束技术,鲲游光电可以为客户提供精细光栅、特殊齿形光栅母版的加工。具体加工要求,敬请来电垂询。
  •           激光直写
    1. 激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光,显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描,在光刻胶上直接曝光写出图形,进而把图形直接转移到掩模上。
    2. 鲲游光电拥有国际最先进、最高精度的激光直写光刻线。通过激光直写,以及与其他工艺的有机结合(如VLSI工艺),鲲游光电可以实现大面积2D高精度掩模版加工、多台阶二维光栅加工、高深宽比的球面与非球面阵列、复眼透镜等3D微纳形貌的加工。
  •           单点金刚石加工
    1. 单点金刚石加工技术是用精密数控车床和天然单晶体金刚石作刀具,在计算机控制下进行加工。由于金刚石的硬度高,耐磨性强,导热性优越,因此,金刚石刀具的刃口可以非常锋利(刃口半径可以小于0.05微米甚至更小)。
    2. 单点金刚石加工适用于光学透镜类、自由曲面、以及大尺度(>100微米)的球面与非球面阵列加工。
  •           超大规模集成电路加工
    1. VLSI是半导体产业的基石。伴随半导体需求、技术的发展,VLSI工艺的发展达到了极高的水平。商用的光刻线宽可以比较容易的实现几十纳米的范围。与此    同时,VLSI技术可以带来极高的产能与稳定性。
    2. 基于股东资源与战略资源,鲲游光电拥有稳固的VLSI协作通道。鲲游光电与国际、国内主要的Fab都有着紧密的合作,而且在特定Fab线拥有独立定制的机台,以满足客户特殊的制造工艺与要求。通过鲲游光电的VLSI通道,鲲游可以为客户提供6寸、8寸、12寸等主流光刻服务,线宽范围从几十纳米到几百纳米。同时通过多次光罩,可以实现多台阶设计实现(如4到32台阶DOE)。除了常规的硅版制造,基于鲲游光电独特的工艺和专有的产线,鲲游也可以为客户提供纯石英晶圆和蓝宝石晶圆的光刻刻蚀。